SKIN1004 Madagascar Centella Ampoule Foam, Oczyszczająca pianka do twarzy z wąkrotą azjatycką, 20 ml

26,90 

134,50 zł / 100 ml (cena brutto)

EAN: 8809576261219koreanska-pielegnacja

PAO: 12 miesięcy

Pojemności:

20 ml 125 ml

Dodaj do Listy życzeń
Dodaj do Listy życzeń

PRÓBKI DO ZAMÓWIENIA

}

EKSPRESOWA WYSYŁKA

w

PORADY KOSMETOLOGA

BEZPIECZNE PŁATNOŚCI

probki-szybka-wysylka

opis

SKIN1004 Madagascar Centella Ampoule Foam

Oczyszczająca pianka do twarzy z wąkrotą azjatycką

20 ml

 

Madagascar Centella Ampoule Foam – bogaty produkt do mycia twarzy w formie pianki. Skutecznie usuwa zanieczyszczenia i makijaż, nie podrażniając skóry. Zawiera regenerujący ekstrakt z wąkroty azjatyckiej oraz nawilżający i kojący wyciąg z nasion kakaowca. Pianka posiada pH na poziomie 5. Odpowiednia dla każdego typu skóry.

 

Substancje aktywne zawarte w produkcie:

  • Ekstrakt z wąkroty z Madagaskaru – regeneruje, łagodzi, przyśpiesza syntezę kolagenu i elastyny,
  • Metylokoilotaurynian sodu – oczyszcza i odtłuszcza skórę, pomaga usuwać zanieczyszczenia z powierzchni, tworząc przy tym obfitą pianę,
  • Wyciąg z kory i nasion kakaowca – nawilża, koi i regeneruje skórę.

 

Działanie:

  • skutecznie lecz delikatnie oczyszcza,
  • nie podrażnia nawet bardzo wrażliwej skóry.

 

Sposób użycia:

Wyciśnij odpowiednią ilość pianki na wilgotne dłonie, dokładnie wmasuj w skórę twarzy. Spłucz letnią wodą.

 

Skład: 

Centella Asiatica Extract, Sodium Cocoyl Isethionate, Glycerin, Water, Sodium Methyl Cocoyl Taurate, Coco-Betaine, Potassium Cocoyl Glycinate, 1,2-Hexanediol, Sodium Chloride, Potassium Cocoate, Potassium Benzoate, Polyquaternium-67, Citric Acid, Dextrin, Sodium Bicarbonate, Theobroma Cacao (Cocoa) Extract, Disodium EDTA, Sodium Acetate, Butylene Glycol, Coptis Chinensis Root Extract, Sodium Hyaluronate, Eclipta Prostrata Extract, Coccinia Indica Fruit Extract

opinie

Recenzje

Napisz pierwszą opinię o „SKIN1004 Madagascar Centella Ampoule Foam, Oczyszczająca pianka do twarzy z wąkrotą azjatycką, 20 ml”

Twój adres e-mail nie zostanie opublikowany. Wymagane pola są oznaczone *